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ET4000具有穩(wěn)定性和重復性，可測量FPD、晶片、磁盤，和與納米材料相關物件的表面特性、臺階高度和粗糙度等。
ET4000具有穩(wěn)定性和重復性，可測量FPD、晶片、磁盤，和與納米材料相關物件的表面特性、臺階高度和粗糙度等。堅固的花崗巖材料鑄成的機身框架以及支撐部件顯著提高了儀器的重復精度，并降低了地板噪音對測量的干擾。ET4000為滿足用戶不同應用方向的需要提供了多種可選配置，通過選配三維成像附件套裝還可以極大地擴充儀器的功能。
1.具有很好的臺階高度重復性5Å(1σ)和線性度（垂直線性度：200nm以上為±0.25%；200nm以下為0.5nm）；
2.高分辨率，縱軸最大分辨率為0.1nm，橫軸為0.01μm，可精確測量納米級至幾百微米級臺階高度；
3.超高直線度：0.005μm/5mm，可測定微細表面形狀、段差、平面度、粗度、應力分析等；
4.低測定力：采用直動力LVDT檢出器，觸針力在0.5μN～500μN范圍可以任意調節(jié)，可測定軟質材料；
5.即時監(jiān)控系統(tǒng)：配置標準CCD，可即時監(jiān)控量測位置；還可選購TopViewCCD，進行高精度定位量測；
7.采用天然金剛石(R2μm)作為探頭，經(jīng)久耐用；
| 型號 | ET4000M | ET4000A | ET4000L | |
| 最大樣品尺寸 | 300x300mm | 210x210mm | 300x400mm | |
| 樣品臺 | 尺寸 | 320x320mm | 220x220mm | 540x400mm |
| X軸傾斜度 | ±1mm/150mm(機動傾斜） | |||
| Y軸傾斜度 | —— | ±1mm/150mm(機動傾斜） | ||
| 承重 | 2Kg | |||
| 檢出器 | 力 | 0.5μN-500μN（0.05mgf-50mgf）可調節(jié) | ||
| 范圍 | 100μm | |||
| 驅動 | LVDT直動式（差動變壓器） | |||
| 觸針 | ET-1479(R2μm) | ET-1479(R2μm)ET-1480(R0.5μm) | ||
| X軸 | 最大測長 | 100mm | ||
| 直線度 | 0.005μm/5mm(0.1μm/100mm) | |||
| 速度 | 0.005-2mm/s(定位速度10mm/s） | |||
| 重復性 | ±5μm（定位） | |||
| Y軸 | 最大測長 | —— | 150mm | 400mm |
| 直線度 | —— | 5μm/150mm | ||
| 重復性 | —— | ±5μm（定位） | ||
| Z軸 | 最大測長 | 52mm | ||
| 放大倍數(shù) | 垂直 | 50-2000000 | ||
| 水平 | 1-10000 | |||
| 3D | —— | 可選擇 | ||
| θ軸 | —— | 可選擇 | ||
| 輔助功能 | 教學、機動傾斜、傾斜度分析、檢出器自動停止功能等 | |||
| 監(jiān)控系統(tǒng) | 攝像裝置 | 1/2inchCCD(768x494像素） | ||
| 監(jiān)視裝置 | 視頻捕捉板 | |||
| 應用 | 成像、臺階、粗糙度、波紋度和傾斜度 | |||
| 重復性 | 1σ0.5nm | |||
| 電源 | AC100V800VA | |||
| 外觀尺寸 | W660xD580xH660mm200Kg | W930xD930xH790mm380Kg | ||
全自動接觸式輪廓儀ET4000系列可適用于薄膜、FPD、晶片、磁盤和與納米材料相關物件，測量微細表面形狀、段差、平面度、粗度、應力分析等，可廣泛應用于半導體、微量流控、精細加工和存儲器等行業(yè)。
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