等離子刻蝕機-干法刻蝕機
時間:2025-03-26 14:41
射頻電源產(chǎn)生低溫等離子體
射頻電源是等離子體配套電源,它是由射頻功率源,阻抗匹配器以及阻抗功率計組成。射頻電源產(chǎn)生等離子的原理，是在一個密閉的真空壓力容器內(nèi)，利用真空泵獲得一定的真空度，射頻被饋入到真空室的兩個極板之間。在兩個極板之間產(chǎn)生一個變電場。氣體在電場上被電離，產(chǎn)生相對應(yīng)的離子。帶電離子被加速不斷的碰撞氣體分子產(chǎn)生級聯(lián)效應(yīng)。就這樣產(chǎn)生了輝光，從而產(chǎn)生了等離子體。
射頻電源的工作原理
射頻收發(fā)核心電路射頻即Radio Frequency，通?？s寫為RF。表示可以輻射到空間的電磁頻率，頻率范圍從300KHz～30GHz之間。射頻簡稱RF射頻就是射頻電流，它是一種高頻交流變化電磁波的簡稱。每秒變化小于1000次的交流電稱為低頻電流，大于10000次的稱為高頻電流，而射頻就是這樣一種高頻電流。
射頻匹配器的工作原理
匹配器是根據(jù)用戶負(fù)載的變化而調(diào)節(jié)自己的參數(shù)（電感與電容）達(dá)到阻抗匹配的目的，以減少反射的目的。
射頻電源區(qū)別于其他直流電源，偏壓電源，中頻電源的優(yōu)勢
當(dāng)交流電源的頻率低于50kHz時，氣體放電的情況與直流時候的相比沒有根本的改變。當(dāng)頻率超過50kHz以后，放電過程開始出現(xiàn)變化：1、在兩極之間不斷振蕩運動的電子可從高頻電場中獲得足夠的能量并使得氣體分子電離，而由電離過程產(chǎn)生的二次電子對于維持放電的重要性相對下降。2、高頻電場可以經(jīng)由其它阻抗耦合進入沉淀室，而不必再要求電極一定要是導(dǎo)體。也可以認(rèn)為，由于所用電源是射頻的，射頻電流可以通過絕緣體兩面間的電容而流動
射頻電源應(yīng)用-等離子刻蝕機
等離子刻蝕機，又叫等離子蝕刻機、等離子平面刻蝕機、等離子體刻蝕機、等離子表面處理儀、等離子清洗系統(tǒng)等。等離子刻蝕，是干法刻蝕中最常見的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體，從而形成了等離子或離子，電離氣體原子通過電場加速時，會釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。某種程度來講，等離子清洗實質(zhì)上是等離子體刻蝕的一種較輕微的情況。進行干式蝕刻工藝的設(shè)備包括反應(yīng)室、電源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反應(yīng)室。氣體被導(dǎo)入并與等離子體進行交換。等離子體在工件表面發(fā)生反應(yīng)，反應(yīng)的揮發(fā)性副產(chǎn)物被真空泵抽走。等離子體刻蝕工藝實際上便是一種反應(yīng)性等離子工藝。近期的發(fā)展是在反應(yīng)室的內(nèi)部安裝成擱架形式，這種設(shè)計的是富有彈性的，用戶可以移去架子來配置合適的等到離子體的蝕刻方法：反應(yīng)性等離子體（RIE），順流等離子體（downstream），直接等離子體（direction plasma）。
等離子刻蝕的應(yīng)用
等離子體處理可應(yīng)用于所有的基材，甚至復(fù)雜的幾何構(gòu)形都可以進行等離子體活化、等離子體清洗，等離子體鍍膜也毫無問題。等離子體處理時的熱負(fù)荷及機械負(fù)荷都很低，因此，低壓等離子體也能處理敏感性材料。
等離子刻蝕機的典型應(yīng)用包括：
等離子體清除浮渣
光阻材料剝離
表面處理
各向異性和各向同性失效分析應(yīng)用
等離子刻蝕反應(yīng)
材料改性/包裝清洗/鈍化層蝕刻/聚亞酰胺蝕刻/增強粘接力/生物醫(yī)學(xué)應(yīng)用/聚合反應(yīng)/混合物清洗/預(yù)結(jié)合清洗
濕法刻蝕相對于等離子刻蝕的缺點
1. 硅片水平運行，機片高（等離子刻蝕去PSG槽式浸泡甩干，硅片受沖擊?。?br style="box-sizing: border-box;" />
2. 下料吸筆易污染硅片（等離子刻蝕去PSG后甩干）；
3. 傳動滾抽易變形（PVDF，PP材質(zhì)且水平放置易變形）；
4. 成本高（化學(xué)品刻蝕代替等離子刻蝕成本增加）。
此外，有些等離子刻蝕機，如SCE等離子刻蝕機還具備“綠色”優(yōu)勢：無氟氯化碳和污水、操作和環(huán)境安全、排除有毒和腐蝕性的液體。
